JPH0719733B2 - Method for etching aluminum foil for electrolytic capacitors - Google Patents
Method for etching aluminum foil for electrolytic capacitorsInfo
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- JPH0719733B2 JPH0719733B2 JP1237590A JP23759089A JPH0719733B2 JP H0719733 B2 JPH0719733 B2 JP H0719733B2 JP 1237590 A JP1237590 A JP 1237590A JP 23759089 A JP23759089 A JP 23759089A JP H0719733 B2 JPH0719733 B2 JP H0719733B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は電解コンデンサ用アルミニウム箔のエッチン
グ方法に関し、さらに詳しく言えば、低圧用のアルミニ
ウム電解コンデンサ用電極箔のエッチング方法に関する
ものである。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for etching an aluminum foil for an electrolytic capacitor, and more specifically to a method for etching an electrode foil for an aluminum electrolytic capacitor for low voltage.
一般に、低圧用電極箔をエッチングするには、塩素イオ
ンを含む水溶液中で交流電流を流す交流エッチング法に
よっている。工業的には、エッチング槽に電極を配置
し、その槽内にアルミニウム箔を一定速度で移動させる
連続エッチング方式が採用されている。Generally, the low-voltage electrode foil is etched by an AC etching method in which an AC current is passed in an aqueous solution containing chlorine ions. Industrially, a continuous etching method in which an electrode is arranged in an etching tank and an aluminum foil is moved in the tank at a constant speed is adopted.
その場合において、エッチング槽内における理想的な電
流分布は、アルミニウム箔が槽内に入るのとほぼ同時に
急激に電流が立上り、すぐに一定電流密度の電流が流れ
ることとされている。すなわち、エッチング開始と同時
に電流が急激に立ち上がれば、その電場で十分に加速さ
れた塩素イオンがアルミニウム箔表面を攻撃するため、
多数の細かい腐食開始点(ピット)が形成され、高い拡
面倍率が得られるからである。これに対して、電流の立
上りが遅れる場合には、塩素イオンが十分に加速されな
いまま腐食開始点が形成されるため、その数が少なくな
り、その結果、小数の径の比較的大きな腐食孔が成長
し、十分な拡面倍率が得られないことになる。In that case, the ideal current distribution in the etching tank is such that the current suddenly rises almost at the same time as the aluminum foil enters the tank, and a current having a constant current density flows immediately. That is, if the current sharply rises at the same time as the etching starts, the chlorine ions sufficiently accelerated by the electric field attack the aluminum foil surface,
This is because a large number of fine corrosion starting points (pits) are formed and a high surface expansion ratio can be obtained. On the other hand, when the rise of the current is delayed, the number of the corrosion starting points is formed without sufficiently accelerating the chlorine ions, so that the number of the starting points is small, and as a result, a small number of relatively large corrosion holes are formed. It grows, and sufficient surface expansion ratio cannot be obtained.
しかしながら、現実の連続エッチング法による製造工程
では、アルミニウム箔が電解液の液面に突入する際、そ
のアルミニウム箔表面に存在する自然酸化皮膜の抵抗に
より、電流の急激な立上りが阻害され、実際には電流が
徐々に増加していくような電流分布となる。したがっ
て、腐食開始点が減少し、十分な拡面倍率が得られない
という問題があった。However, in the actual manufacturing process by the continuous etching method, when the aluminum foil rushes into the liquid surface of the electrolytic solution, the resistance of the natural oxide film existing on the surface of the aluminum foil hinders the rapid rise of the current, and Has a current distribution such that the current gradually increases. Therefore, there is a problem that the starting point of corrosion is reduced and a sufficient surface expansion ratio cannot be obtained.
上記課題を解決するため、この発明においては、アルミ
ニウム箔を電解液中に所定速度で連続的に浸漬しなが
ら、交流電流を印加して同アルミニウム箔をエッチング
するに先立って、同アルミニウム箔を電解液中において
上記エッチング時の電流密度よりも高い電流密度にて所
定時間予備的に交流エッチング(以下、予備エッチング
という。)するようにしている。To solve the above problems, in the present invention, while continuously dipping the aluminum foil in the electrolytic solution at a predetermined speed, prior to etching the aluminum foil by applying an alternating current, the aluminum foil is electrolyzed. Preliminary AC etching (hereinafter referred to as preliminary etching) is performed in a liquid at a current density higher than that at the time of etching for a predetermined time.
すなわち、第1図に例示されているように、第1の電解
槽1と第2の電解槽2とが用意され、アルミニウム箔A
をまず、第1の電解槽1内において予備エッチングし、
次いで第2の電解槽2に浸漬して本エッチングを行う。
この場合、上記のように予備エッチングの電流密度は本
エッチング時の電流密度よりも高くされる。また、予備
エッチングのエッチング時間は、1〜8秒の範囲が好ま
しい。なお図示の例では、予備エッチングを行う第1の
電解槽1内には、アルミニウム箔Aをはさむように一対
の電極プレート1a,1bが配置され、その各電極プレート1
a,1b間に交流電源3が接続される。また、本エッチング
を行う第2の電解槽2内には、3つの電極プレート2a〜
2cがそれらの間にアルミニウム箔Aをはさむように配置
されているとともに、同期関係にある2つの交流電源4
a,4bが用意される。そして、図において真中の電極プレ
ート2bと左側の電極プレート2aとの間に一方の交流電源
4aが接続されるとともに、真中の電極プレート2bと右側
の電極プレート2cとの間に他方の交流電源4bが接続され
る。That is, as illustrated in FIG. 1, the first electrolytic cell 1 and the second electrolytic cell 2 are prepared, and the aluminum foil A
Is first pre-etched in the first electrolytic cell 1,
Next, the main etching is performed by immersing in the second electrolytic bath 2.
In this case, the current density in the preliminary etching is set higher than that in the main etching as described above. The etching time of the preliminary etching is preferably in the range of 1 to 8 seconds. In the illustrated example, a pair of electrode plates 1a and 1b are arranged so as to sandwich the aluminum foil A in the first electrolytic bath 1 for pre-etching.
The AC power supply 3 is connected between a and 1b. In addition, in the second electrolytic cell 2 for the main etching, three electrode plates 2a to
The two AC power supplies 2c are arranged so that the aluminum foil A is sandwiched between them and are in synchronization with each other.
a and 4b are prepared. Then, in the figure, one AC power supply is provided between the middle electrode plate 2b and the left electrode plate 2a.
4a is connected, and the other AC power source 4b is connected between the middle electrode plate 2b and the right electrode plate 2c.
上述では本エッチング工程を一段エッチングとしてこの
発明の基本例を説明したが、本エッチング工程を二段エ
ッチングもしくは三段エッチングのように多段エッチン
グとしてもよい。Although the basic example of the present invention has been described above with the main etching step as one-step etching, the main etching step may be multi-step etching such as two-step etching or three-step etching.
この予備エッチングにより、アルミニウム箔表面の自然
酸化皮膜がその抵抗を無視できる程度まで取り除かれ
る。By this preliminary etching, the natural oxide film on the surface of the aluminum foil is removed to the extent that its resistance can be ignored.
《実施例1》 アルミニウム箔をまず、HCl 7wt%,AlCl3 1wt%,H3PO4
1wt%で液温30℃の予備エッチング液内において、電流
密度200,300,400,500,600,800,1000mA/cm2の各交流電流
(周波数30Hz)にて、それぞれ5秒間ずつ予備エッチン
グを行った。しかるのち、その各々について予備エッチ
ング液と同じエッチング液内において、電流密度250mA/
cm2、周波数30Hzの交流電流にて10分間本エッチングを
行った。その予備エッチング電流密度(mA/cm2)と静電
容量(μF/cm2)との関係を表1に示す。また、予備エ
ッチング電流密度(mA/cm2)と折曲げテストの耐用回数
との関係を表2に示す。Example 1 First, the aluminum foil was first treated with HCl 7 wt%, AlCl 3 1 wt%, H 3 PO 4
In a pre-etching liquid having a liquid temperature of 30 ° C. at 1 wt%, pre-etching was performed for 5 seconds with each alternating current (frequency 30 Hz) having a current density of 200, 300, 400, 500, 600, 800, 1000 mA / cm 2 . Then, for each of them, in the same etching solution as the preliminary etching solution, the current density of 250 mA /
The main etching was performed for 10 minutes with an alternating current of cm 2 and a frequency of 30 Hz. Table 1 shows the relationship between the preliminary etching current density (mA / cm 2 ) and the electrostatic capacity (μF / cm 2 ). Table 2 shows the relationship between the preliminary etching current density (mA / cm 2 ) and the number of times the bending test was performed.
《実施例2》 実施例1と同じ予備エッチング液内において、交流電流
(周波数30Hz)の電流密度を500mA/cm2として、1〜10
秒まで1秒単位でエッチング時間を増加させて予備エッ
チングを行った。しかるのち、その各々について上記実
施例1と同じ条件で本エッチングを行った。その予備エ
ッチング時間(sec)と静電容量(μF/cm2)との関係を
表3に示す。また、予備エッチング時間と折曲げテスト
の耐用回数との関係を表4に示す。 << Example 2 >> In the same pre-etching solution as in Example 1, the current density of the alternating current (frequency: 30 Hz) was set to 500 mA / cm 2 , and 1 to 10
The preliminary etching was performed by increasing the etching time in units of 1 second until the second. Then, each of them was subjected to the main etching under the same conditions as in the above-mentioned Example 1. Table 3 shows the relationship between the preliminary etching time (sec) and the electrostatic capacity (μF / cm 2 ). Table 4 shows the relationship between the pre-etching time and the number of times the bending test was performed.
《実施例3》 アルミニウム箔をまず、HCl 10wt%,AlCl3 1wt%,HNO3
1wt%,H3PO4 1wt%で液温25℃の予備エッチング液内に
おいて、電流密度200,300,400,500,600,800,1000mA/cm2
の各交流電流(周波数15Hz)にて、それぞれ5秒間ずつ
予備エッチングを行った。しかるのち、その各々につい
て上記実施例1と同じ条件で本エッチングを行った。そ
の予備エッチング電流密度(mA/cm2)と静電容量(μF/
cm2)との関係を表5に示す。また、予備エッチング電
流密度(mA/cm2)と折曲げテストの耐用回数との関係を
表6に示す。 Example 3 First, the aluminum foil was treated with HCl 10 wt%, AlCl 3 1 wt%, HNO 3
Current density of 200,300,400,500,600,800,1000mA / cm 2 in 1wt%, H 3 PO 4 1wt% in pre-etching solution at 25 ℃
Pre-etching was performed for 5 seconds with each alternating current (frequency 15 Hz). Then, each of them was subjected to the main etching under the same conditions as in the above-mentioned Example 1. The preliminary etching current density (mA / cm 2 ) and capacitance (μF /
The relationship with cm 2 ) is shown in Table 5. Table 6 shows the relationship between the preliminary etching current density (mA / cm 2 ) and the number of times the bending test was performed.
《実施例4》 実施例3と同じ予備エッチング液内において、交流電流
(周波数15Hz)の電流密度を500mA/cm2として、1〜10
秒まで1秒単位でエッチング時間を増加させて予備エッ
チングを行った。しかるのち、その各々について上記実
施例1と同じ条件で本エッチングを行った。その予備エ
ッチング時間(sec)と静電容量(μF/cm2)との関係を
表7に示す。また、予備エッチング時間と折曲げテスト
の耐用回数との関係を表8に示す。 Example 4 In the same pre-etching solution as in Example 3, the current density of the alternating current (frequency: 15 Hz) was set to 500 mA / cm 2 , and 1 to 10
The preliminary etching was performed by increasing the etching time in units of 1 second until the second. Then, each of them was subjected to the main etching under the same conditions as in the above-mentioned Example 1. Table 7 shows the relationship between the preliminary etching time (sec) and the electrostatic capacity (μF / cm 2 ). Table 8 shows the relationship between the preliminary etching time and the number of times the bending test was performed.
〔比較例1〕 予備エッチングを行うことなく、アルミニウム箔をHCl
7wt%,AlCl3 1wt%,H3PO4 1wt%で液温30℃のエッチン
グ液内において、交流電流(周波数30Hz)の電流密度を
250mA/cm2として10分間エッチングを行った。このとき
の静電容量は、15.0μF/cm2であり、また、折曲げテス
トの耐用回数は15回であった。 [Comparative Example 1] An aluminum foil was treated with HCl without pre-etching.
The current density of the alternating current (frequency 30Hz) was measured in an etching solution containing 7wt%, AlCl 3 1wt%, H 3 PO 4 1wt% and a liquid temperature of 30 ℃.
Etching was performed at 250 mA / cm 2 for 10 minutes. At this time, the electrostatic capacity was 15.0 μF / cm 2 , and the bending test was performed 15 times.
次に、予備エッチングの後の本エッチングを多段とした
場合について説明する。ここではそれを3段とした場合
の実施例5とその比較例2を下述する。Next, a case where the main etching after the preliminary etching has multiple stages will be described. Here, Example 5 and Comparative Example 2 in the case of using three stages will be described below.
《実施例5》 実施例3と同じ予備エッチング液内において、交流電流
(周波数20Hz)の電流密度を500mA/cm2として、3秒間
予備エッチングを行った。しかるのち、実施例1と同じ
本エッチング液、液温30℃において、電流密度250mA/cm
2、周波数30Hzの交流電流にて4分間、本エッチングの
1段目のエッチングを行った。次いで、同一の本エッチ
ング液、液温25℃において、電流密度200mA/cm2、周波
数25Hzの交流電流にて4分間、本エッチングの2段目の
エッチングを行った。さらに、同一の本エッチング液、
液温20℃において、電流密度150mA/cm2、周波数20Hzの
交流電流にて4分間、本エッチングの3段目のエッチン
グを行った。Example 5 In the same pre-etching solution as in Example 3, pre-etching was performed for 3 seconds at an alternating current (frequency 20 Hz) current density of 500 mA / cm 2 . Then, at the same etching solution as in Example 1 at a liquid temperature of 30 ° C., a current density of 250 mA / cm
2. The first stage of the main etching was performed for 4 minutes with an alternating current having a frequency of 30 Hz. Then, the second etching of the main etching was performed for 4 minutes with the same main etching solution at a liquid temperature of 25 ° C. and an alternating current with a current density of 200 mA / cm 2 and a frequency of 25 Hz. Furthermore, the same main etching solution,
At the liquid temperature of 20 ° C., the third stage of the main etching was performed for 4 minutes with an alternating current having a current density of 150 mA / cm 2 and a frequency of 20 Hz.
〔比較例2〕 実施例5の本エッチングと同じ、3段エッチングを予備
エッチングなしに行った。Comparative Example 2 The same three-step etching as the main etching of Example 5 was performed without preliminary etching.
実施例5と比較例2における静電容量(μF/cm2)と折
曲げテストの耐用回数との関係を表9に示す。Table 9 shows the relationship between the electrostatic capacity (μF / cm 2 ) and the service life of the bending test in Example 5 and Comparative Example 2.
この表9より、本エッチングが多段エッチングであって
も予備エッチングは十分な効果があることが分かる。 It can be seen from Table 9 that the preliminary etching has a sufficient effect even if the main etching is multi-stage etching.
なお参考までに、第2図に実施例1の表1および実施例
3の表5に対応する予備エッチング電流密度(mA/cm2)
対静電容量(μF/cm2)のグラフを示す。また、第3図
に実施例1の表2および実施例3の表6に対応する予備
エッチング電流密度対折曲げテストの耐用回数(回)の
グラフを示す。第4図には実施例2の表3および実施例
4の表7に対応する予備エッチング時間(秒)対静電容
量のグラフを示す。さらには第5図に実施例2の表4と
実施例4の表8に対応する予備エッチング時間対折曲げ
テストの耐用回数のグラフを示す。For reference, the preliminary etching current density (mA / cm 2 ) corresponding to Table 1 of Example 1 and Table 5 of Example 3 is shown in FIG.
The graph of electrostatic capacity (μF / cm 2 ) is shown. Further, FIG. 3 shows a graph of the pre-etching current density versus the number of times the bending test was performed (times) corresponding to Table 2 of Example 1 and Table 6 of Example 3. FIG. 4 shows a graph of pre-etching time (sec) versus capacitance corresponding to Table 3 of Example 2 and Table 7 of Example 4. Further, FIG. 5 shows a graph of the pre-etching time versus the number of times the bending test is performed corresponding to Table 4 of Example 2 and Table 8 of Example 4.
第2図と第3図のグラフから予備エッチング時の電流密
度は本エッチングの電流密度以上であり、また、第4図
と第5図のグラフから予備エッチング時間は1〜8秒の
範囲内が好ましいことが理解されよう。From the graphs of FIGS. 2 and 3, the current density during the pre-etching is higher than the current density of the main etching, and from the graphs of FIGS. 4 and 5, the pre-etching time is within the range of 1 to 8 seconds. It will be appreciated that it is preferable.
以上説明したように、この発明によれば、本エッチング
に先立って、予備エッチングを行ってアルミニウム箔表
面の自然酸化皮膜をその抵抗が無視できる程度まで取り
除くようにしたことにより、本エッチング時に多数の細
かい腐食開始点(ピット)が形成され、高い拡面倍率が
得られる。また、機械的強度の点においても優れた電解
コンデンサ用のアルミニウム箔が得られる。As described above, according to the present invention, prior to the main etching, pre-etching is performed to remove the natural oxide film on the surface of the aluminum foil to such an extent that its resistance can be ignored. A fine corrosion starting point (pit) is formed, and a high surface expansion ratio can be obtained. Also, an aluminum foil for an electrolytic capacitor, which is excellent in mechanical strength, can be obtained.
第1図はこの発明の実施に供されるエッチング装置の一
例を概略的に示した断面図、第2図は予備エッチング電
流密度対静電容量の関係を示したグラフ、第3図は予備
エッチング電流密度対折曲げテストの耐用回数の関係を
示したグラフ、第4図は予備エッチング時間対静電容量
の関係を示したグラフ、第5図は予備エッチング時間対
折曲げテストの耐用回数の関係を示したグラフである。 図中、1は第1の電解槽、2は第2の電解槽である。FIG. 1 is a sectional view schematically showing an example of an etching apparatus used for carrying out the present invention, FIG. 2 is a graph showing the relationship between pre-etching current density and capacitance, and FIG. 3 is pre-etching. A graph showing the relationship between the current density and the number of times the bending test is used, FIG. 4 is a graph showing the relationship between the pre-etching time and the capacitance, and FIG. 5 is the relationship between the pre-etching time and the number of times the bending test is used. It is a graph showing. In the figure, 1 is a first electrolytic cell and 2 is a second electrolytic cell.
フロントページの続き (72)発明者 川崎 龍二 神奈川県藤沢市辻堂新町2丁目2番1号 エルナー株式会社内 (72)発明者 吉井 章 神奈川県藤沢市辻堂新町2丁目2番1号 エルナー株式会社内 (72)発明者 遠藤 栄治 東京都千代田区丸の内2丁目1番2号 旭 硝子株式会社内 (72)発明者 岩元 純治郎 東京都千代田区丸の内2丁目1番2号 旭 硝子株式会社内Front page continuation (72) Inventor Ryuji Kawasaki, 2-2-1 Tsujido Shinmachi, Fujisawa-shi, Kanagawa Elner Co., Ltd. (72) Inventor Akira Yoshii 2-2-1 Tsujido Shinmachi, Fujisawa, Kanagawa Elner Co., Ltd. (72) Inventor Eiji Endo Marunouchi 2-1-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Asahi Glass Co., Ltd. (72) Inventor Junjiro Iwamoto 2-1-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Asahi Glass Co., Ltd.
Claims (2)
続的に浸漬しながら、交流電流を印加して同アルミニウ
ム箔をエッチングする電解コンデンサ用アルミニウム箔
のエッチング方法において、 上記エッチングの前工程として、上記アルミニウム箔を
電解液中において上記エッチング時の電流密度よりも高
い電流密度にて所定時間予備的に交流エッチングするこ
とを特徴とする電解コンデンサ用アルミニウム箔のエッ
チング方法。1. A method of etching an aluminum foil for an electrolytic capacitor, wherein an aluminum foil is continuously dipped in an electrolytic solution at a predetermined rate while an alternating current is applied to etch the aluminum foil. A method for etching an aluminum foil for an electrolytic capacitor, characterized in that the aluminum foil is preliminarily subjected to AC etching in an electrolytic solution at a current density higher than the current density at the time of etching for a predetermined time.
間は、1〜8秒である請求項1に記載の電解コンデンサ
用アルミニウム箔のエッチング方法。2. The method for etching an aluminum foil for an electrolytic capacitor according to claim 1, wherein the etching time of the preliminary AC etching is 1 to 8 seconds.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1237590A JPH0719733B2 (en) | 1989-09-12 | 1989-09-12 | Method for etching aluminum foil for electrolytic capacitors |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1237590A JPH0719733B2 (en) | 1989-09-12 | 1989-09-12 | Method for etching aluminum foil for electrolytic capacitors |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0399417A JPH0399417A (en) | 1991-04-24 |
| JPH0719733B2 true JPH0719733B2 (en) | 1995-03-06 |
Family
ID=17017576
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1237590A Expired - Lifetime JPH0719733B2 (en) | 1989-09-12 | 1989-09-12 | Method for etching aluminum foil for electrolytic capacitors |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0719733B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4798568B2 (en) * | 2008-04-16 | 2011-10-19 | ワタナベ株式会社 | Carry bag belt |
-
1989
- 1989-09-12 JP JP1237590A patent/JPH0719733B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0399417A (en) | 1991-04-24 |
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